个超大的屏幕，上面密密麻麻写着充满了各种术语的设计方案。

    《论稳态微聚束SSMB的未来应用场景》

    如果对于这个论文不太熟悉的话，那么而这份设计方案还有一个名字。

    光刻工厂！

    是的，在王东来前世的时候，就曾经有过一段时间出现了铺天盖地的相关营销文章。

    ASML打造小而精的光刻机，这是为了出口赚钱。

    而华国作为被制裁的国家，地大物博，又不用出口，完全可以直接采用一种相反的研发理念。

    那就是将光刻机进行扩大化。

    从小小的一台光刻机，变成一个占地巨大的光刻工厂。

    理想状态下的光刻机，一天24小时可以生产600×400颗芯片，也就是二十四万颗芯片，除去其中的次品之后，一天能剩下二十万颗左右。

    但是，要注意到这是理想状态下。

    实际上，一台光刻机的工作效率受到很多种因素的影响，包括光刻机的型号、工艺、晶圆大小、芯片尺寸和复杂度等。

    不同型号的光刻机在光源系统、光学镜头、双工作台等方面的差异，直接决定了光刻机的分辨率、套刻精度和生产效率。

    最后，理想状态下可以一天生产二十万合格芯片的光刻机，其实能够生产出来的芯片仅仅只有两万左右。

    但是，如果换成光刻工厂的话，主打的就是一个量大实惠。

    一次性可以生产的芯片，远远超过光刻机，不管是理想状态下的生产数量还是实际生产数量，都会暴打光刻机。

    只是，在前世的时候，对于光刻工厂的真实性和可信性，根本没有得到学术界的承认。

    王东来此世早就生出了这样的想法。

    而在学习到了相关知识之后，王东来也明白了此事的难度。

    理想很美好，现实很骨感。

    想要完成光刻工厂的设想，难度极大。

    绝对不比研发出一台高性能的EUV光刻机简单。

    甚至，从某一种方面来说，难度还要更大。

    然而，天才就是天才。

    如果换成其他人的话，根本不可能有实现的可能性。

    毕竟，将一款成熟的技术进行扩大化，可不是简单的扩大就行了。

    要做到这一点，就必须要对该技术有极为深刻的了解和清楚的认知。

    如此，才能将这个技术成功地扩大化，并应用在实际上。

    等离子刻蚀机突破了，EDA设计软件成型了，先进设计方案也验证成功了，光刻胶也完成了。

    现在，在半导体领域还差光学镜头、晶圆片、硅晶体等材料和设备了。

    这些都很重要，可是，还远远比不上光刻设备的重要。

    有着前世的记忆，王东来知道明年将会是一个新的开始。

    白头鹰上台的那位商人头领，可不是一个好相与的。

    手里挥舞着制裁大棒，可是给了全球狠狠一棒。

    不过，这一棒对于国内还是有好处的，打蒙一部分人的同时，也打醒了一部分人。

    抛开侥幸心理之后，国内在很多领域上都完成了突破，以国产取代进口。

    王东来知道这件事，自然不会错过。

    好风凭借力，送我上青云。

    以他的能力，再加上大势>> --