; 智云微电子目前采用这款光刻机，用来生产等效七纳米工艺的芯片，而后续则是会用于10-14纳米工艺的产能扩充上。

    毕竟这款光刻机虽然可以使用四重曝光技术，但实际上使用双重曝光才是它的主要任务，也更加适合。

    采用这款光刻机生产10-14纳米工艺的芯片，效率更高，成本也更低。

    未来很多年里，HDUV-600型光刻机都将会是智云微电子的主力生产光刻机，因为等效10-14纳米工艺在很多年里都不会过时，研究半导体市场的分析师认为，未来十年内等效10-14纳米工艺依旧会是主力工艺，占据主要的半导体市场份额。

    基于智云微电子的庞大需求以及国内其他半导体制造厂商，如中芯，北微等厂商的需求，未来这款光刻机的需求量会持续很多年，销量不会低的。

    再加上虽然性能落后一些，但是价格也更低，适合生产成熟工艺的HDUV-500以及HDUV-400。

    三款HDUV系列光刻机一起，承担起来了海蓝科技光刻机项目的主要营收以及利润来源，也承担起来了华夏的半导体制造业的核心设备的重任。

    当然，现在的DUV浸润式光刻机已经不是什么卡脖子，也不是前沿顶级的技术了，目前徐申学和老美那几家财团竞争的是EUV光刻机为核心的下一代半导体制造技术。

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    以EUV光刻机为核心的下一代半导体制造技术，将会用于等效七纳米工艺以及五纳米乃至更低工艺节点的未来逻辑芯片制造上。

    同样在储存芯片上，未来想要继续往下进行技术突破，也需要依靠分辨率更小的EUV光刻机。

    目前智云微电子旗下的顶级内存生产工艺‘10B’工艺，实际工艺节点是十六纳米……而这个工艺节点已经逼近了HDUV-600B型光刻机的物理极限。

    在采用EUV光刻机之前，已经很难再往下进行技术突破了……

    未来的预定的10C工艺以及10D工艺，都是需要采用EUV光刻机来支撑的。

    同样的闪存芯片领域也同样如此，目前智云微电子旗下制造闪存的顶级工艺，也是使用的HDUV-600B光刻机，其手机产品将会在今年随着新一代的S18手机推向市场。

    而下一代的工艺技术同样需要EUV光刻机的支撑……当然，闪存工艺相对来说还可以变通一二，可以通过堆叠更多的层数来减少对工艺制程的需求，所以哪怕没有EUV光刻机，其实也能够生产更多层数的闪存芯片！

    但是如果能够有更多层数的同时，还能够缩小晶体管的尺寸以及间隔，来一个同时加强，岂不是更好？逻辑芯片、内存芯片以及闪存芯片，这三种芯片的性能强弱，都是和光刻机的技术水准息息相关的。

    而让徐申学庆幸的是，目前海湾科技的EUV光刻机项目推进顺利。

    现在已经向智云微电子交付了第二台实验机，而接下来的各项测试以及研发工作如果顺利的话，那么今年秋季左右，海湾科技就能向智云微电子开始交付量产机型，大概明年智云微电子就能利用EUV光刻机生产等效七纳米工艺的芯片。

    当然，说的都是一切顺利的情况下，如果有些环节里稍微有些拖延，那么就会出现延迟，那么等到后年才突入量产也是很正常的事。

    不过也不用太担心，ASML的EUV光刻机的技术进度以及台积电的EUV光刻机的各项试验测试工作虽然更快一些，但是依旧需要时间，明年大概率都搞不定……之前那些年银河安保的工作做的还是很到位，硬生生的把对面的EUV光刻机的技术推进推迟了好几年。

    如今双方正式在光刻机领域里结束了冲突，但是他们想要恢复并继续推进技术研发进度也不是那么容易的事。

    综合起来，双>> --